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J-GLOBAL ID：200902229199721436   Reference number：08A0657901

Deposition of Zinc Oxide Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide Solutions

超臨界二酸化炭素溶液中の酸化亜鉛薄膜の堆積

Author (3)： KONDOH Eiichi (Univ. Yamanashi, Kofu, JPN) ,  SASAKI Kenji (Univ. Yamanashi, Kofu, JPN) ,  NABETANI Yoichi (Univ. Yamanashi, Kofu, JPN)
Material： Applied Physics Express  (APEX)
Volume： 1  Issue： 6  Page： 061201.1-061201.3  Publication year： Jun. 25, 2008 
JST Material Number： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *carbon dioxide ,  zinc oxide ,  *substrate (plate) ,  silicon ,  *photoluminescence ,  semiconductor material ,  *supercritical carbon dioxide ,  *sapphire substrate ,  Si wafer
Semi thesaurus term： 珪素基板

JST classification (1)： Techniques and equipment of thin film deposition  (BK14020I)

Reference (16)：

• KING, J. W. Curr. Opin. Solid State Mater. Sci. 2003, 7, 413
• KONDOH, E. Jpn. J. Appl. Phys. 2004, 43, 3928
• ZONG, Y. Proc. Advanced Metallization Conf. 2004. Material Research Society, PA. 2005, 353
• KONDOH, E. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, 5799
• OHDE, H. Chem. Mater. 2004, 16, 4028

Terms in the title (4)： 超臨界二酸化炭素 ,  溶液 ,  酸化亜鉛薄膜 ,  堆積