Art

J-GLOBAL ID：200902231629819006   Reference number：09A0494819

Patterning on single crystalline silicon by laser scanning and alkaline etching

レーザ走査およびアルカリエッチングによる単結晶シリコン上のパターン形成

Author (2)： HOSONO Takashi (Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, JPN) ,  TOKURA Hitoshi (Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 Ookayama, Meguro-ku, Tokyo 152-8550, JPN)
Material： Applied Surface Science  (Appl Surf Sci)
Volume： 255  Issue： 15  Page： 6857-6861  Publication year： May. 15, 2009 
JST Material Number： B0707B  ISSN： 0169-4332  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Netherlands (NLD)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： optical scanning ,  *etching ,  *pattern formation ,  *laser beam machining ,  uplift (phenomenon) ,  surface modification ,  laser output ,  potassium hydroxide ,  mask ,  laser ablation ,  *micromachining ,  *MEMS ,  Ar laser ,  oxide film ,  *monocrystal silicon ,  conversion coating film
Semi thesaurus term： *laser scan

JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Oxide thin films  (BK14050P)

Terms in the title (4)： レーザ走査 ,  アルカリエッチング ,  単結晶シリコン ,  パターン形成