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J-GLOBAL ID：200902234277201901   Reference number：03A0506403

High Aspect Pattern Fabrication by Nano Imprint Lithography Using Fine Diamond Mold

微小ダイアモンドモールドを用いたナノインプリントリソグラフィによる高アスペクト比パターン作製

Author (8)： HIRAI Y (Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YOSHIDA S (Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TAKAGI N (Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TANAKA Y (Graduate School of Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  YABE H (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  SASAKI K (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  SUMITANI H (Mitsubishi Electric Corp., Hyogo, JPN) ,  YAMAMOTO K (Technol. Res. Inst. of Osaka Prefecture, Osaka, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 42  Issue： 6B  Page： 3863-3866  Publication year： Jun. 30, 2003 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *lithography ,...
Semi thesaurus term： ナノインプリントリソグラフィー

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (10)：

• 1) S. Y. Chou, P. R. Krauss and P. J. Renstrom: Appl. Phys. Lett. 67 (1995) 3114.
• 2) S. Y. Chou, P. R. Krauss and P. J. Renstrom: J. Vac. Sci. & Technol. <B>B14</B> (1996) 4129.
• 3) Y. Hirai, S. Harada, S. Isaka, M. Okano, M. Kobayasi and Y. Tanaka: Abstr. 46th Int. Conf. Electron, Ion and Photon Beam technology and Nanofabrication (Anaheim, 2002) p. 410.
• 4) Y. Hirai, H. Okuno, S. Yoshida and Y. Tanaka: Abstr. 46th Int. Conf. Electron, Ion and Photon Beam technology and Nanofabrication (Anaheim, 2002) p. 247.
• 5) J. Taniguchi, Y. Tokano, I. Miyamoto, M. Komuro, H. Hiroshima, K. Kobayashi, T. Miyazaki and H. Ohyi: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 7070.

Terms in the title (4)： 微小 ,  ナノインプリントリソグラフィ ,  高アスペクト比 ,  作製