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J-GLOBAL ID：200902245956334939   Reference number：03A0728332

Influence of sputtering conditions on microstructure and mechanical properties of Zr-Si-N films prepared by radio-frequency-reactive sputtering

rf反応性スパッタリングにより作製したZr-Si-N膜の微細構造及び機械的性質に及ぼすスパッタリング条件の影響

Author (5)： ZHOU M (Osaka Univ., Ibaraki, JPN) ,  NOSE M (Takaoka National Coll., Takaoka, JPN) ,  DEGUCHI Y (Toyama Univ., Toyama, JPN) ,  MAE T (Toyama National Coll. Technol., Toyama, JPN) ,  NOGI K (Osaka Univ., Ibaraki, JPN)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science and Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films)
Volume： 21  Issue： 5  Page： 1791-1795  Publication year： Sep. 2003 
JST Material Number： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *zirconium compound ,...

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JST classification (2)： Thin films of other inorganic compounds  (BK14060A) ,  Mechanical properties of solids in general  (BL01021C)

Terms in the title (8)： RF ,  反応性スパッタリング ,  作製 ,  Zr ,  Si ,  微細構造 ,  機械的性質 ,  スパッタリング