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J-GLOBAL ID：200902248327809753   Reference number：03A0508990

I-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Use for Photocrosslinking of Polysilane/diepoxyfluorene Blend

I-ライン感受性光酸発生剤及びそのポリシラン/ジエポキシフルオレンブレンドの光橋かけへの利用

Author (7)： OKAMURA H (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SAKAI K (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  TSUNOOKA M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  SHIRAI M (Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN) ,  FUJIKI T (Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  KAWASAKI S (Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN) ,  YAMADA M (Osaka Gas Co., Ltd., Osaka, JPN)
Material： Journal of Photopolymer Science and Technology  (フォトポリマー懇話会誌)
Volume： 16  Issue： 1  Page： 87-90  Publication year： 2003 
JST Material Number： L0202A  ISSN： 0914-9244  CODEN： JSTEEW  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： photoacid generator ,...
Semi thesaurus term： *photocrosslinking ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Substance index (3)： NAI-105 ,  9H-Fluorene-9-one O-(trifluoromethylsulfonyl)oxime ,  Nonafluoro-1-butanesulfonic acid (9H-fluorene-9-ylidene)amino ester

Reference (7)：

• 1. J.P. Fouassier, J.F. Rabek, Radiation Curing in Polymer Science and Technology, Elsevier Applied Science, New York (1993).
• 2. H. Okamura, Y. Watanabe, M. Shirai, M. Tsunooka, T. Fujiki, S. Kawasaki, M. Yamada, J. Photopolym. Sci. Technol., 15 (2002) 145.
• 3. F. Ortica, J.C. Scaiono, G. Pohlers, J.F. Cameron, A. Zampini, Chem. Mater., 12 (2000) 414.
• 4. K. Naitoh, T. Yamaoka, A. Umehara, Chem. Lett., (1991) 1869.
• 5. L.R. Subramanian, M. Hanack, Chem. Ber., 105 (1972) 1465.

Terms in the title (4)： 感受性 ,  光酸発生剤 ,  ポリシラン ,  光橋かけ