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J-GLOBAL ID：200902251738631867   Reference number：04A0301276

EB描画技術 高精度パターンドメディア用EB描画技術

Author (8)： ITO TAKAOMI (エリオニクス) ,  KOJIMA YASUHIKO (新潟大 大学院自然科学研究科) ,  OHASHI SUMITO (静岡県大 経営情報) ,  YOKOTA KATSUMI (鶴岡工高専) ,  NUNOKAWA HIROSHI (筑波大 大学院理工学研究科) ,  TAKEUCHI MASAKAZU (工学院大 工) ,  ONO SUSUMU (工学院大 大学院) ,  HOTTA MASANAO (東京工大)
Material： 精密工学会誌  (Journal of the Japan Society for Precision Engineering)
Volume： 70  Issue： 3  Page： 314-317  Publication year： Mar. 05, 2004 
JST Material Number： F0268A  ISSN： 0912-0289  Document type： Article
Article type： 解説  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *electron beam lithography ,...

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JST classification (2)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V) ,  Applications of electron beams and ion beams  (BD02070X)

Reference (6)：

• 中谷功. 電子線リソグラフィーによる磁性材料の超微細加工. 日本応用磁気学会誌. 1995, 19, 5, 831-839
• 青山勉. パターンド磁気記録媒体の作製方法と磁気的特性. 応用物理学会誌. 2003, 72, 3, 298-303
• SOENO, Y. Feasibility of Discrete track perpendicular media for high track density recording. IEEE Trans. Magn. 2003, 39, 4, 1967-1971
• WADA, Y. High-density recording using an electron beam recorder. Jpn. J. Appl. Phys. 2001, 40, 1653-1660
• TAKEDA, M. Electron beam recording with a novel differential pumping head realizing over 50GB/Layer capacity disc. Tech. Dig. of ISOM/ODS2002. 2002, 18-20

Terms in the title (2)： EB ,  描画