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J-GLOBAL ID：200902274414271868   Reference number：07A0478790

Self-Formation of Ti-rich Interfacial Layers in Cu(Ti) Alloy Films

Cu(Ti)合金膜中のTiに富む界面層の自己形成

Author (3)： ITO Kazuhiro (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  TSUKIMOTO Susumu (Kyoto Univ., Kyoto, JPN) ,  MURAKAMI Masanori (Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Brief Communications & Review Papers)
Volume： 46  Issue： 4B  Page： 1942-1946  Publication year： Apr. 30, 2007 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： copper base alloy ,...
Semi thesaurus term： 自己形成

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JST classification (2)： Lattice defects in metals  (BK12030F) ,  Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (13)：

• A. F. Mayadas and M. Shatzkes: Phys. Rev. B 1(1970) 1382.
• M. Shimada, M. Moriyama, K. Ito, S. Tsukimoto, and M. Murakami: J. Vac. Sci. Technol. B 24(2006) 190.
• P. J. Ding, W. A. Lanford, S. Hymes, and S. P. Murarka: J. Appl. Phys. 75(1994) 3627.
• D. Adams, T. L. Alford, N. D. Theodore, S. W. Russell, R. L. Spreitzer, and J. W. Mayer: Thin Solid Films 262(1995) 199.
• C. J. Liu and J. S. Chen: Appl. Phys. Lett. 80(2002) 2678.

Terms in the title (5)： Cu ,  Ti ,  金膜 ,  界面層 ,  自己形成