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J-GLOBAL ID：200902288472402094   Reference number：06A0354991

Low-temperature sputtering of crystalline TiO2 films

結晶TiO₂膜の低温スパッタリング

Author (3)： MUSIL J. (Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 30614 Plzen, CZE) ,  HERMAN D. (Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 30614 Plzen, CZE) ,  SICHA J. (Dep. of Physics, Univ. of West Bohemia, Univerzitni 22, 30614 Plzen, CZE)
Material： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science and Technology. A. Vacuum, Surfaces, and Films)
Volume： 24  Issue： 3  Page： 521-528  Publication year： May. 2006 
JST Material Number： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *titanium oxide ,...

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JST classification (2)： Oxide thin films  (BK14050P) ,  Optical properties of condensed matter in general  (BM08010A)

Terms in the title (4)： 結晶 ,  TiO2 ,  低温 ,  スパッタリング