Art

J-GLOBAL ID：200902293425714138   Reference number：08A0149266

Catalyst-referred etching

触媒基準エッチング法

Author (5)： HARA HIDEYUKI (大阪大 大学院工学研究科) ,  SANO YASUHISA (大阪大 大学院工学研究科) ,  ARIMA KENTA (大阪大 大学院工学研究科) ,  YAMAUCHI KAZUTO (大阪大 大学院工学研究科) ,  YAMAUCHI KAZUTO (大阪大 大学院工学研究科 超精密科学研究セ)
Material： 応用物理  (JSAP International)
Volume： 77  Issue： 2  Page： 168-171  Publication year： Feb. 10, 2008 
JST Material Number： F0252A  ISSN： 0369-8009  CODEN： OYBSA  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： Japan (JPN)  Language： JAPANESE (JA)

Thesaurus term： *etching ,...
Semi thesaurus term： *CMP ,...

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JST classification (1)： Manufacturing technology of solid-state devices  (NC03030V)

Reference (12)：

• 土肥俊郎. 諸説・半導体CMP技術. 2001
• 山内和人. 特開2006-114632
• HARA, H. J. Electron. Mater. 2006, 35, L11
• 松波弘之. 半導体SiC技術と応用. 2003
• KATO, T. Mater. Sci. Forum. 2007, 556, 753

Terms in the title (2)： 触媒 ,  エッチング