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J-GLOBAL ID：200902294178200742   Reference number：05A0410972

Growth rate of silicon nanowires

シリコンナノ細線の成長速度

Author (3)： KIKKAWA J. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  OHNO Y. (Osaka Univ., Osaka, JPN) ,  TAKEDA S. (Osaka Univ., Osaka, JPN)
Material： Applied Physics Letters  (Appl Phys Lett)
Volume： 86  Issue： 12  Page： 123109.1-123109.3  Publication year： Mar. 21, 2005 
JST Material Number： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  Document type： Article
Article type： 短報  Country of issue： United States (USA)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： *quantum wire ,...

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JST classification (1)： Semiconductor thin films  (BK14040E)

Substance index (1)： Silane

Terms in the title (2)： シリコンナノ細線 ,  成長速度