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J-GLOBAL ID：200902295374971346   Reference number：08A0565377

Novel Optical Method for Widening Process Window of Phase-Modulated Excimer Laser Crystallization

位相変調エキシマレーザ結晶化のプロセスウィンドウを広げる新しい光学法

Author (5)： TANIGUCHI Yukio (Advanced LCD Technol. Dev. Center Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  ENDO Takahiko (Advanced LCD Technol. Dev. Center Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  AZUMA Kazufumi (Advanced LCD Technol. Dev. Center Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  MATSUMURA Masakiyo (Advanced LCD Technol. Dev. Center Co., Ltd., Yokohama, JPN) ,  ISHIWARA Hiroshi (Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
Material： Japanese Journal of Applied Physics  (JJAP)
Volume： 47  Issue： 2 Issue 1  Page： 947-955  Publication year： Feb. 25, 2008 
JST Material Number： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  Document type： Article
Article type： 原著論文  Country of issue： United Kingdom (GBR)  Language： ENGLISH (EN)

Thesaurus term： silicon ,  *excimer laser ,  Quartz ,  Birefringence ,  phase modulation ,  focal depth ,  *crystallization ,  allowable range ,  laser irradiation ,  *amorphous semiconductor ,  process window ,  tolerance limit ,  limit

JST classification (1)： Structure of amorphous semiconductors  (BK04030O)

Reference (16)：

• M. Matsumura and C. H. Oh: Thin Solid Films 337(1999)123.
• J. S. Im and R. S. Sposili: MRS Bull.21(1996) No.3, 39.
• K. Masumo, N. Kato, and M. Kunigita: AM-LCD ’97 Dig., 1997, p. 183.
• S. W. Lee and S. K. Joo: IEEE Electron Device Lett.17(1996)160.
• M. Hatano, T. Shiba, and M. Ohkura: SID Int. Symp. Dig. Tech. Pap. 33(2002)158.

Terms in the title (5)： 位相変調 ,  エキシマレーザ ,  結晶化 ,  プロセスウィンドウ ,  光学