Pat
J-GLOBAL ID：200903000038486344
薄膜磁気ヘッドの製造方法及び磁極形成用フォトマスク
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：
長谷川 芳樹
, 黒木 義樹
, 三上 敬史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007153266
Publication number (International publication number)：2008305512
Application date： Jun. 08, 2007
Publication date： Dec. 18, 2008
Summary：
【課題】磁極層の形状精度を向上可能な薄膜磁気ヘッドの製造方法及び磁極形成用フォトマスクを得る。【解決手段】磁極形成用のレジストパターンを形成するためのフォトマスクに、磁極部の形成領域を画定する第1露光領域と、フレア部の形成領域を画定する第2露光領域と、この第1露光領域と第2露光領域の境界位置で遮光領域に接続し、かつ、第2露光領域内に外周エッジに沿う磁極部と同一幅の第3露光領域を画成する補正パターンとを形成する。次に、上記フォトマスクを用い、第1露光領域と第3露光領域を最適フォーカス状態にしてパターン形成用レジストを露光し、その後、現像してレジストパターンを得る。そして、レジストパターンにより画定された磁極形成領域に、磁極層を形成する。【選択図】図3
Claim (excerpt)：
磁極層が、記録トラック幅に対応する一定のトラック幅寸法を有する磁極部と、該磁極部のハイト方向後端に連続し、ハイト方向後方に向けてトラック幅寸法が広がるフレア部とを備えた平面形状で形成される薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
磁極形成用のレジストパターンを形成するためのフォトマスクに、前記磁極部の形成領域を画定する第1露光領域と、前記フレア部の形成領域を画定する第2露光領域と、この第1露光領域と第2露光領域の境界位置で該露光領域外の遮光領域に接続し、かつ、前記第2露光領域内に該第2露光領域の外周エッジに沿う前記磁極部と同一幅の第3露光領域を画成するようにして配置した、前記第2露光領域内の遮光領域としての補正パターンとを形成する工程と、
このフォトマスクを用いて、前記第1露光領域と前記第2露光領域内の第3露光領域とを同一のフォーカス状態にし、パターン形成用レジストを露光する工程と、
露光後のレジストを現像し、前記磁極部及び前記フレア部を有する磁極層の形成領域を画定するレジストパターンを得る工程と、
このレジストパターンを用いて磁極層を形成する工程と、
を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (10)：
2H095BA12
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 5D033AA05
, 5D033BA07
, 5D033BA13
, 5D033CA00
, 5D033DA07
, 5D033DA22
, 5D033DA31
Cited by applicant (8)
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Cited by examiner (2)
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薄膜磁気ヘッドの製造方法
Gazette classification：公開公報
Application number：特願2004-359385
Applicant：ヘッドウェイテクノロジーズインコーポレイテッド, エスエーイーマグネティクス(エイチ.ケー.)リミティド
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特開平4-251253
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