Pat
J-GLOBAL ID:200903000222107623
四重極イオントラップ装置、四重極イオントラップ装置を動作させる方法、および四重極イオントラップ装置を含む質量分析装置
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
青木 篤
, 鶴田 準一
, 島田 哲郎
, 下道 晶久
, 西山 雅也
Gazette classification:公表公報
Application number (International application number):2003543053
Publication number (International publication number):2005512276
Application date: Oct. 24, 2002
Publication date: Apr. 28, 2005
Summary:
四重極イオントラップ装置はフィールド調整電極を有しており、この電極はトラッピング領域の外側で入口エンドキャップ電極中のアパーチャに隣接して位置しており、さらに出口エンドキャップ電極における開口に隣接していても良い。フィールド調整電極はアパーチャの近傍でフィールドの歪みを制御する。フィールド調整電極上の電圧を適正に設定することによって、イオン導入、前駆イオン分離および質量操作のような作動処理の効率および分解能が向上する。
Claim (excerpt):
四重極イオントラップ装置であって、
リング電極と、トラッピング領域を取り囲む2つのエンドキャップ電極であって、前記エンドキャップ電極の1つは、イオンが前記トラッピング領域内に進入可能な中央アパーチャを有する入口エンドキャップ電極であるもの、を有する電極構造と、
前記入口エンドキャップ電極の前記アパーチャに隣接する前記トラッピング領域の外に配置されたフィールド調節電極と、
前記電極構造にAC電圧を供給し、前記トラッピング領域内に、イオンをトラッピングするためのトラッピング電界と、前記トラッピング電界によってトラップされたイオンを共鳴励起するための励起電界とを生成するべく構成されたAC電源手段と、および
DC電圧を前記フィールド調節電極に供給し、該DC電圧を制御可能に変化させることにより、前記イオントラップ装置の動作モードに従って前記トラッピング領域内のイオン運動に選択的に影響を与えるべく構成されたDC電源手段、
を有する、装置。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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イオントラップ質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-013534
Applicant:株式会社島津製作所
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イオントラップ質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-235769
Applicant:株式会社日立製作所
-
イオントラップ型質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-132537
Applicant:株式会社島津製作所
-
質量分析計および分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-111816
Applicant:株式会社日立製作所
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質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-123686
Applicant:株式会社日立製作所
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Cited by examiner (5)
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イオントラップ質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-013534
Applicant:株式会社島津製作所
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イオントラップ質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-235769
Applicant:株式会社日立製作所
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イオントラップ型質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-132537
Applicant:株式会社島津製作所
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質量分析計および分析方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-111816
Applicant:株式会社日立製作所
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質量分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-123686
Applicant:株式会社日立製作所
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