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J-GLOBAL ID：200903000367793720

成膜装置のクリーニング方法

Inventor：
山崎 克弘

About 山崎 克弘


Applicant, Patent owner：
芝浦メカトロニクス株式会社

About 芝浦メカトロニクス株式会社


Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000229212
Publication number (International publication number)：2002047571
Application date： Jul. 28, 2000
Publication date： Feb. 15, 2002
Summary：
【要約】【課題】 周辺機器および部品を損傷させることなく成膜室の内部に付着した膜を高圧下で迅速に除去することができる成膜装置のクリーニング方法を提供する。【解決手段】 成膜後に、成膜室内を一方側に排気するとともに、エッチングガスを他方側から成膜室内に導入して成膜室の内圧を数百Torr程度の高圧に保持し、エッチングガス成分を作用させて付着した不要な膜を除去する。
Claim (excerpt)：
成膜室の内部に付着した不要な膜を除去する成膜装置のクリーニング方法であって、成膜後に、成膜室内を一方側に排気するとともに、エッチングガスを他方側から成膜室内に導入して成膜室の内圧を数百Torr程度の高圧に保持し、エッチングガス成分を作用させて付着した不要な膜を除去することを特徴とする成膜装置のクリーニング方法。
IPC (3)：
C23C 16/44 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065
FI (3)：
C23C 16/44 J ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 N
F-Term (26)：
4K030AA06 ,  4K030DA03 ,  4K030EA03 ,  4K030JA09 ,  4K030KA41 ,  5F004AA15 ,  5F004BB29 ,  5F004BC03 ,  5F004BD04 ,  5F004CA02 ,  5F004DA00 ,  5F004DB02 ,  5F045AC15 ,  5F045AC16 ,  5F045AC17 ,  5F045AE25 ,  5F045BB16 ,  5F045DP03 ,  5F045EB06 ,  5F045EE13 ,  5F045EF05 ,  5F045EG02 ,  5F045EG06 ,  5F045EK07 ,  5F045EM06 ,  5F045HA13
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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