紫外線照射装置および紫外線照射装置の使用方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000102743
Publication number (International publication number)：2001289999
Application date： Apr. 04, 2000
Publication date： Oct. 19, 2001
Summary：

【要約】【課題】処理の効率化、処理品質の均一化を図る。【解決手段】 200nm未満の波長の紫外線を放射する光源を備え、紫外線を照射する為のガラス照射窓を備えた紫外線照射装置において、前記ガラス照射窓を構成するガラスに紫外線照射処理の行われたガラスを用いる。紫外線照射処理は、172nmの波長の紫外線を積算光量で7000mJ/cm2以上となるように照射することで行う。

Claim (excerpt)：

200nm未満の波長の紫外線を放射する光源を備え、紫外線を照射する為のガラス照射窓を備えた紫外線照射装置であって、前記ガラス照射窓を構成するガラスが紫外線照射処理の行われたガラスであることを特徴とする紫外線照射装置。

FI (2)：

G21K 5/00 W , G21K 5/00 Z

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

放電ランプおよび真空紫外光源装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-331282 Applicant：ウシオ電機株式会社, 住金石英株式会社
石英ガラス光学部材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-221254 Applicant：株式会社ニコン
ArFエキシマレーザリソグラフィー用合成石英マスク基板およびその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-163473 Applicant：信越化学工業株式会社

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