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J-GLOBAL ID：200903075864613522

エキシマレーザ照射に対する光学部材の耐久性予測方法及び石英ガラス光学部材の選択方法

Inventor：
神保 宏樹

About 神保 宏樹

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小峯 典男

About 小峯 典男

, 
藤原 誠志

About 藤原 誠志


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 大西 正悟
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997274200
Publication number (International publication number)：1999108839
Application date： Oct. 07, 1997
Publication date： Apr. 23, 1999
Summary：
【要約】【課題】 光学部材の飽和吸収を考慮した、正確で簡便なエキシマレーザ照射に対する光学部材の耐久性予測方法を提供する。【解決手段】 光学部材中の水素濃度及び/又は塩素濃度、照射するエキシマレーザのエネルギー密度及び積算パルス数を考慮した、光学部材の吸収係数と照射するエキシマレーザの積算パルス数との関係が直線で近似可能な直線領域における吸収係数の変化と、光学部材中の水素濃度及び/又は塩素濃度と照射するエキシマレーザのエネルギー密度を考慮した、光学部材の吸収が飽和状態となった飽和領域における吸収係数の値とを求め、この両者により求まる透過率変化から、その光学部材の耐久性の予測が可能となる。
Claim (excerpt)：
光学部材の吸収係数と照射するエキシマレーザの積算パルス数との関係が直線で近似可能な直線領域において、第1の所定照射エネルギー密度のエキシマレーザを前記光学部材に照射したときの前記光学部材中の水素濃度及び/又は塩素濃度と吸収係数との相関と、照射エネルギー密度及び積算パルス数と吸収係数との相関とを求め、これらの相関から前記直線領域での吸収係数と水素濃度及び/又は塩素濃度、照射エネルギー密度及び積算パルス数との第1関係式を求める第1工程と、前記光学部材の飽和吸収係数を考慮した飽和領域において、前記第1の所定照射エネルギー密度のエキシマレーザを前記光学部材に照射したときの飽和吸収係数と照射エネルギ-密度との相関と前記光学部材中の水素濃度及び/又は塩素濃度との相関とを求め、これらの相関から前記飽和領域での吸収係数と照射エネルギー密度と水素濃度及び/又は塩素濃度との第2関係式を求める第2工程と、前記光学部材中の水素濃度及び/又は塩素濃度と、照射するエキシマレーザの照射エネルギー密度と積算パルス数とを前記第1関係式に代入して得られる前記直線領域での吸収係数の変化と、前記光学部材中の水素濃度及び/又は塩素濃度と、照射するエキシマレーザの照射エネルギー密度とを前記第2関係式に代入して得られる前記飽和領域での吸収係数の値とを求め、これにより求まる第2の所定照射エネルギー密度のエキシマレーザに対する前記光学部材の透過率変化から前記光学部材の耐久性を予測する第3工程とを有することを特徴とするエキシマレ-ザ照射に対する光学部材の耐久性予測方法。
IPC (2)：
G01N 21/59 ,  G01N 21/88
FI (2)：
G01N 21/59 Z ,  G01N 21/88 D
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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