水素の製造方法及び製造装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (3)：田中光雄 , 山田卓二 , 西下正石
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2009099032
Publication number (International publication number)：2009184919
Application date： Apr. 15, 2009
Publication date： Aug. 20, 2009
Summary：

【課題】操作が簡単で安全性が高く、エネルギー効率も高い水素の製造方法と製造装置を提供する。【解決手段】水素含有化合物4の液体を収容する容器3にレーザー12が透過できる材料からなるレーザー透過部を設け、該レーザー透過部を透過して、前記水素含有化合物4の液体に、パルス幅が10-12秒以下のパルスレーザー12を照射する。該水素含有化合物4は炭素数1〜4のアルコールからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含むもの。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

水素含有化合物の液体に、パルスレーザーを照射する工程を有する水素の製造方法であって、該パルスレーザーのパルス幅が10-12秒以下であり、該水素含有化合物が炭素数1〜4のアルコールからなる群から選択される少なくとも一種の化合物を含むものである水素の製造方法。

IPC (1)：

C01B 3/22

FI (1)：

C01B3/22 A

F-Term (3)：

4G140DA01 , 4G140DB04 , 4G140DC01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

水素生成装置及び砕氷装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-132327 Applicant：浜松ホトニクス株式会社
水素・電気エネルギ発生システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-048647 Applicant：財団法人レーザー技術総合研究所
低温プラズマによる水素の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-153165 Applicant：独立行政法人産業技術総合研究所

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

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