特に、短コヒーレンス干渉法用の広帯域光源

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (9)：岡部正夫 , 加藤伸晃 , 産形和央 , 岡部讓 , 臼井伸一 , 越智隆夫 , 本宮照久 , 朝日伸光 , 三山勝巳
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005161404
Publication number (International publication number)：2005345474
Application date： Jun. 01, 2005
Publication date： Dec. 15, 2005
Summary：

【課題】本発明は、特に、短コヒーレンス干渉法用の光源として使用することができる、広帯域スペクトルを生成する機構に関する。【解決手段】機構は、レーザ、特に、波長λpの短光パルスを生成するレーザ・ダイオード、波長λpの付近での群速度のゼロ分散および異常分散を有する、非線形性の高い微細構造化した光ファイバ、ならびに、光パルスを微細構造化した光ファイバ内に導入する手段とを備える。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

広帯域スペクトルを有する光源であって、波長λpの短光パルスを生成するレーザと、前記波長λpの付近での群速度のゼロ分散および異常分散を有する微細構造化した光ファイバと、前記光パルスを前記微細構造化した光ファイバ内に導入する手段とを備える光源。

IPC (2)：

G01N21/01 , G01N21/17

FI (2)：

G01N21/01 D , G01N21/17 620

F-Term (13)：

2G059AA05 , 2G059AA06 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059EE09 , 2G059FF02 , 2G059GG01 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059JJ11 , 2G059JJ13 , 2G059JJ17 , 2G059JJ30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

米国特許10/858,461
米国特許5,802,236
米国特許6,097,870

Cited by examiner (6)

光断層画像化装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-286690 Applicant：富士写真フイルム株式会社
大なる光学非線形性を有する微小構造光導波路
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2004-505799 Applicant：コーニング・インコーポレーテッド
単色パルス光励起によってフォトニック結晶部材から放射された白色電磁波を光源とする分光測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-081810 Applicant：株式会社日本スペクトラル研究所

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