光断層画像化装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：柳田征史 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001286690
Publication number (International publication number)：2003090792
Application date： Sep. 20, 2001
Publication date： Mar. 28, 2003
Summary：

【要約】【課題】低コヒーレンス干渉を用いて断層情報を取得する光断層画像化装置において、大型で高価な光源を使用せずに、高い分解能で断層情報を取得する。【解決手段】ファイバカプラ201 において、光源部10から出射された低コヒーレンス光を、被測定部1に照射する信号光と、ピエゾ素子203 で周波数シフトされる参照光とに分割し、また、被測定部1の所定の深部で反射された信号光と参照光とを合波する。この合波された干渉光の光強度をバランス差分検出部50で検出し、信号処理部60で画像処理を行い、画像表示部70に光断層画像として表示する。モード同期Er添加ファイバレーザからなるパルス光源部101 から射出されるパルス光は、負分散特性を有する零分散ファイバ111 において、スペクトル幅が拡大され、コヒーレンス長が短くなる。従来光源部に使用される大型で高価なKLM,Ti:sapphire Laserが不要になり、光源部10が小型で安価なものとなる。

Claim (excerpt)：

低コヒーレンス光を射出する光源部と、前記低コヒーレンス光を信号光と参照光に分割し、前記参照光の周波数と前記信号光の周波数に差が生じるように、前記参照光または信号光の少なくとも一つの周波数をシフトさせ、前記信号光を被測定部に照射し、前記信号光の前記被測定部の所定の深部からの反射光と前記参照光とを干渉させる分波・合波手段と、前記反射光と参照光の干渉光の光強度を測定し、該光強度に基づいて、前記被測定部の光断層画像を取得する画像検出手段とを有する光断層画像化装置において、前記光源部が、パルス光を射出するモード同期ファイバレーザと、該パルス光を伝搬させ、かつ該パルス光の波長帯域において負分散特性を有するファイバとを備えてなるものであることを特徴とする光断層画像化装置。

IPC (2)：

G01N 21/17 630 , A61B 10/00

FI (2)：

G01N 21/17 630 , A61B 10/00 E

F-Term (18)：

2G059AA05 , 2G059BB12 , 2G059EE02 , 2G059EE09 , 2G059FF01 , 2G059FF06 , 2G059GG01 , 2G059GG08 , 2G059GG09 , 2G059HH01 , 2G059HH02 , 2G059JJ11 , 2G059JJ12 , 2G059JJ14 , 2G059JJ17 , 2G059JJ19 , 2G059KK01 , 2G059PP04

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

光周波数掃引式断層画像測定方法および装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-142584 Applicant：吉村武晃, 大研医器株式会社
光ファイバ歪み測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-242352 Applicant：安藤電気株式会社
光増幅用光ファイバおよび光ファイバ増幅器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-351782 Applicant：住友電気工業株式会社