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J-GLOBAL ID：200903001043104243

測定装置の制御方法

Inventor：
出口 和宏

About 出口 和宏


Applicant, Patent owner：
株式会社ソキア

About 株式会社ソキア


Agent (2)： 八木 秀人 ,  清水 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004261844
Publication number (International publication number)：2006078303
Application date： Sep. 09, 2004
Publication date： Mar. 23, 2006
Summary：
【課題】 複数の測定対象を同時に測定するのに要する測定時間を短縮すること。【解決手段】 ヘッド20、22の移動先を示す測定ポイントを設定し、設定された測定ポイントの座標を基にY軸駆動部26を駆動してヘッド20、22全体を測定ポイント近傍まで移動させ、そのあと、ヘッド20、22に搭載されたカメラの撮像による画像を処理し、その処理結果を基に、ヘッド20、22をそれぞれ非同期でX軸用フレーム12に沿って移動させるとともに、Y1S軸またはY2S軸に沿って微動させて、各ヘッド20、22を測定ポイントに位置決めし、ヘッド20、22に搭載されたカメラ54の撮像による画像をPC30で処理して、測定テーブル18上のフラットパネル42のパターンの微小寸法を測定する。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
被測定物上のパターンを撮像対象とする複数のヘッドと、前記被測定物を臨む空間を前記複数のヘッドの移動領域として、前記複数のヘッドを前記移動領域に亘って移動させる駆動部と、前記駆動部の駆動を制御する制御部と、前記複数のヘッドの撮像による画像を処理して前記パターンに関する微小寸法を算出する画像処理部とを備えた測定装置を制御するに際して、前記複数のヘッドの移動先を示す測定ポイントをそれぞれ前記空間の座標に対応づけて設定し、前記設定された測定ポイントの座標を基に前記複数のヘッド全体を前記空間のうち一次元の方向に沿って移動させ、その後、前記複数のヘッドを前記空間のうち一次元または二次元の方向に沿ってそれぞれ非同期で移動させて位置決めし、前記位置決めされた複数のヘッドにより前記パターンをそれぞれ撮像し、前記複数のヘッドの撮像によるパターンの画像をそれぞれ処理して、前記各パターンの微小寸法を測定することを特徴とする測定装置の制御方法。
IPC (1)：
G01B 11/04
FI (1)：
G01B11/04 H
F-Term (13)：
2F065AA23 ,  2F065BB02 ,  2F065CC25 ,  2F065DD06 ,  2F065FF04 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ05 ,  2F065JJ09 ,  2F065MM07 ,  2F065NN20 ,  2F065PP12 ,  2F065PP24 ,  2F065UU06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 二次元座標測定機
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-154730   Applicant：株式会社ソキア
Cited by examiner (7)
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