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J-GLOBAL ID:200903001091934460
ブタジエン系重合体及びその製造方法、並びにそれを用いたゴム組成物及びタイヤ
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
杉村 興作
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003181042
Publication number (International publication number):2005015590
Application date: Jun. 25, 2003
Publication date: Jan. 20, 2005
Summary:
【課題】シス-1,4結合含量が高く且つビニル結合含量が低く、分子量分布が特定の範囲にあるブタジエン系重合体を提供する。【解決手段】1,3-ブタジエン単量体単位を含むブタジエン系重合体において、前記1,3-ブタジエン単量体単位中のフーリエ変換赤外分光法で測定したシス-1,4結合含量が98.0%以上且つビニル結合含量が0.3%以下で、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)が1.6〜3.5であることを特徴とするブタジエン系重合体である。該ブタジエン系重合体は、特定の希土類元素含有化合物を含む触媒系の存在下、25°C以下の温度で1,3-ブタジエンを含む単量体を重合させることで製造できる。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
1,3-ブタジエン単量体単位を含むブタジエン系重合体において、前記1,3-ブタジエン単量体単位中のフーリエ変換赤外分光法で測定したシス-1,4結合含量が98.0%以上且つビニル結合含量が0.3%以下で、重量平均分子量(Mw)と数平均分子量(Mn)との比(Mw/Mn)が1.6〜3.5であることを特徴とするブタジエン系重合体。
IPC (4):
C08F36/06
, B60C1/00
, C08F4/54
, C08F4/611
FI (4):
C08F36/06
, B60C1/00 Z
, C08F4/54
, C08F4/611
F-Term (28):
4J015DA14
, 4J100AS02P
, 4J100CA01
, 4J100CA15
, 4J100DA01
, 4J100DA04
, 4J100FA08
, 4J100FA12
, 4J100JA29
, 4J128AA01
, 4J128AB00
, 4J128AC49
, 4J128BA00A
, 4J128BA01B
, 4J128BB00A
, 4J128BB01B
, 4J128BC15B
, 4J128BC16B
, 4J128BC17B
, 4J128BC27B
, 4J128CA14C
, 4J128CB23A
, 4J128CB42C
, 4J128CB53C
, 4J128CB54A
, 4J128CB86C
, 4J128EB13
, 4J128GA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (8)
-
高活性触媒を用いたポリブタジエンの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-291947
Applicant:ポリサー・ラバー・コーポレーション
-
触媒、その製造及び共役ジエンの気相重合のためのその使用
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-259645
Applicant:バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト
-
特開昭55-066903
-
共役ジエン重合触媒及び共役ジエン系重合体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-384771
Applicant:日本ゼオン株式会社, 理化学研究所
-
ブタジエン系重合体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-223781
Applicant:日本ゼオン株式会社
-
重合用触媒
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-053550
Applicant:理化学研究所
-
共役ジエン系重合体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-117511
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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合成ポリイソプレン及びその製造方法
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2002-541966
Applicant:ソシエテドテクノロジーミシュラン, ミシュランルシェルシュエテクニークソシエテアノニム
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