Pat
J-GLOBAL ID:200903001236381899
光ヘテロダイン干渉測定方法およびその測定装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
梶山 佶是
, 山本 富士男
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006057364
Publication number (International publication number):2007232667
Application date: Mar. 03, 2006
Publication date: Sep. 13, 2007
Summary:
【課題】 干渉光におけるノイズを低減して測定精度を向上させることができるような光ヘテロダイン干渉測定方法およびその測定装置を提供することにある。【解決手段】 この発明は、周波数の異なる基準光と測定光とを生成してビームスプリッタを介して測定光を被測定物に照射する光ヘテロダイン干渉測定方法において、ビームスプリッタへ照射される透過光側を遮断し、反射する側の光ビームだけとし、これの透過方向への漏れ光の受光素子での受光が最小になるように、偏光板の軸を設定するようにしているので、受光素子から得られる干渉光の電気信号における漏れ光により発生するノイズレベルを低減することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
周波数の異なる基準光と測定光とを生成してビームスプリッタを介して測定光を被測定物に照射し、基準光をミラーに反射させて前記被測定物からの反射光と前記ミラーに反射させた基準光の干渉光を得て、前記被測定物の表面状態を測定しあるいは表面欠陥を検出するための光ヘテロダイン干渉測定方法において、
前記基準光は、S偏光光およびP偏光光のいずれか一方であり、前記測定光は、S偏光光およびP偏光光のいずれか他方であり、
前記被測定物からの反射光と前記ミラーに反射させた基準光とを前記ビームスプリッタから偏光板と通して得て受光素子で前記干渉光の電気信号を得るものであって、前記基準光および前記測定光のうち前記ビームスプリッタを透過する透過光側を遮断した状態で前記受光素子から得られる前記電気信号のレベルが最小となるように前記偏光板を回転させて偏光板の軸を設定し、前記被測定物の表面状態を測定しあるいは前記表面欠陥を検出する光ヘテロダイン干渉測定方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (50):
2F064AA09
, 2F064CC01
, 2F064EE10
, 2F064FF01
, 2F064FF06
, 2F064GG12
, 2F064GG23
, 2F064GG32
, 2F064GG38
, 2F064GG44
, 2F064GG59
, 2F064GG70
, 2F064HH01
, 2F064HH02
, 2F064HH03
, 2F064HH05
, 2F064HH07
, 2F064HH08
, 2F064JJ04
, 2F064JJ05
, 2F065AA49
, 2F065BB03
, 2F065BB16
, 2F065CC03
, 2F065DD04
, 2F065FF51
, 2F065GG04
, 2F065GG23
, 2F065HH09
, 2F065HH10
, 2F065JJ01
, 2F065JJ02
, 2F065JJ03
, 2F065JJ15
, 2F065JJ18
, 2F065JJ25
, 2F065JJ26
, 2F065LL12
, 2F065LL30
, 2F065LL32
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL57
, 2F065MM03
, 2F065MM04
, 2F065NN01
, 2F065PP12
, 2F065PP13
, 2F065QQ03
, 2F065QQ31
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (9)
-
表面欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-002869
Applicant:日立電子エンジニアリング株式会社
-
光ヘテロダイン干渉計装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-137516
Applicant:キヤノン株式会社
-
光へテロダイン干渉を利用する測定方法及びそれを用いた測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-017131
Applicant:キヤノン株式会社
-
光ヘテロダイン干渉計装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-225253
Applicant:キヤノン株式会社
-
特開平2-259407
-
特開平2-236102
-
特開昭58-176511
-
光ヘテロダイン干渉計の検知システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-152551
Applicant:横山修子
-
干渉測定方法、装置及びその方法またはその装置により測定された物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-191082
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Show all
Cited by examiner (8)
-
光ヘテロダイン干渉計装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-137516
Applicant:キヤノン株式会社
-
光へテロダイン干渉を利用する測定方法及びそれを用いた測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-017131
Applicant:キヤノン株式会社
-
光ヘテロダイン干渉計装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-225253
Applicant:キヤノン株式会社
-
特開平2-259407
-
特開平2-236102
-
特開昭58-176511
-
光ヘテロダイン干渉計の検知システム
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-152551
Applicant:横山修子
-
干渉測定方法、装置及びその方法またはその装置により測定された物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-191082
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
Show all
Return to Previous Page