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J-GLOBAL ID：200903001503566097

クリーニング方法及びクリーニング装置

Inventor：
北田 良二

About 北田 良二

, 
竹原 克尚

About 竹原 克尚


Applicant, Patent owner：
トーワ株式会社

About トーワ株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001119806
Publication number (International publication number)：2002316112
Application date： Apr. 18, 2001
Publication date： Oct. 29, 2002
Summary：
【要約】【課題】 被クリーニング物の表面に付着した成形汚れを短時間にかつ充分に除去する、クリーニング方法及びクリーニング装置を提供する。【解決手段】 下型1の型面をクリーニングするクリーニング装置に、エキシマランプ7を有する光源11と、下型1と光源11との間の空間に酸素含有ガスを吐出する吐出管12と、吐出管12に供給管13及び電磁弁14を介して配管され純酸素(O2)ガスが充填されたボンベ15とを備える。エキシマランプ7が照射したエキシマ光10は、型面に付着した成形汚れ5等の化学結合を切断してその一部を炭素17及び水素(図示なし)に分解し、また、酸素分子18に吸収されこれを分解して活性酸素原子(O*)19とオゾン(O3)20とを生成する。その結果、炭素17及び水素と活性酸素原子19とが反応することによってCO2及びH2Oを生成し、これらが揮発することによって成形汚れ5を除去する。
Claim (excerpt)：
光源を使用して紫外線を発生させるとともに該紫外線を被クリーニング物に照射する工程と、前記被クリーニング物と前記光源との間の空間に酸素又はオゾンの少なくとも一方を含む酸素含有ガスを供給する工程と、前記紫外線を前記酸素含有ガスに照射することにより活性酸素原子を生成する工程と、前記紫外線を前記被クリーニング物の表面に照射することにより該表面に付着した付着物を分解する工程と、前記分解された付着物と前記活性酸素原子とを反応させて揮発物を生成する工程と、前記揮発物を揮発させることにより前記付着物を除去する工程とを備えていることを特徴とするクリーニング方法。
IPC (2)：
B08B 7/00 ,  B29C 33/72
FI (2)：
B08B 7/00 ,  B29C 33/72
F-Term (14)：
3B116AA46 ,  3B116AB51 ,  3B116BA02 ,  3B116BB83 ,  3B116BB88 ,  3B116BB89 ,  3B116BC01 ,  3B116CD11 ,  4F202AM10 ,  4F202AM30 ,  4F202CA11 ,  4F202CB01 ,  4F202CD08 ,  4F202CS02
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
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