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J-GLOBAL ID：200903001690537623
フォトマスクブランクス及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小島 隆司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000353044
Publication number (International publication number)：2002156743
Application date： Nov. 20, 2000
Publication date： May. 31, 2002
Summary：
【要約】【解決手段】 透明基板上に少なくとも一層の遮光膜と少なくとも一層の反射防止膜とを有するフォトマスクブランクスにおいて、上記遮光膜がフッ素を含まないクロム系膜、上記反射防止膜がフッ素原子を含み且つSi原子を含むクロム系膜とを組み合わせた複合膜から形成されてなることを特徴とするフォトマスクブランクス。【効果】 本発明によれば、露光光248nm以下でも低い反射率を有する高品質なフォトマスクブランクスを得ることができる。
Claim (excerpt)：
透明基板上に少なくとも一層の遮光膜と少なくとも一層の反射防止膜とを有するフォトマスクブランクスにおいて、上記遮光膜がフッ素を含まないクロム系膜、上記反射防止膜がフッ素原子を含み且つSi原子を含むクロム系膜とを組み合わせた複合膜から形成されてなることを特徴とするフォトマスクブランクス。
IPC (4)：
G03F 1/14
, C23C 14/14
, C23C 14/34
, G03F 1/08
G03F 1/14 F
, C23C 14/14 G
, C23C 14/34 M
, G03F 1/08 G
2H095BC05
, 2H095BC08
, 2H095BC14
, 4K029BA41
, 4K029BB02
, 4K029BC07
, 4K029BD00
, 4K029CA06
, 4K029DC03
, 4K029DC34
, 4K029HA02
Cited by applicant (9)
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