ホトマスク及びその製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田守 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000265677
Publication number (International publication number)：2002072454
Application date： Sep. 01, 2000
Publication date： Mar. 12, 2002
Summary：

【要約】【課題】リソグラフィ工程で用いられるホトマスクにおいて、ホトマスクの遮光膜の側面から発生する反射光により光学像のコントラストが劣化するのを防止する。【解決手段】ホトマスクの遮光膜の側面で、露光波長に対する反射率が25%以下になるようにする。また、光透過性基板に遮光膜のパターンを形成し、この遮光膜の少なくとも側面に露光波長に対する反射率が25%以下となるような反射防止膜を形成する。

Claim (excerpt)：

リソグラフィ工程で用いられるホトマスクであって、光透過性基板に遮光膜のパターンを形成しこの遮光膜の側面の露光波長に対する反射率を25%以下にしたことを特徴とするホトマスク。

IPC (2)：

G03F 1/14 , G03F 1/08

FI (2)：

G03F 1/14 F , G03F 1/08 L

F-Term (2)：

2H095BC08 , 2H095BC14

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

特開平1-227156
特開昭52-058375
反射防止膜およびこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-194034 Applicant：ソニー株式会社

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Cited by examiner (6)

特開平1-227156
特開昭52-058375
反射防止膜およびこれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-194034 Applicant：ソニー株式会社

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