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J-GLOBAL ID:200903001797334385
レーザーダイオードアレイ、レーザー装置、合波レーザー光源および露光装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
柳田 征史 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002201979
Publication number (International publication number):2003158332
Application date: Jul. 10, 2002
Publication date: May. 30, 2003
Summary:
【要約】 (修正有)【課題】 高出力が得られるレーザーダイオードアレイを得る。【解決手段】 複数の発光点を有するマルチキャビティレーザーダイオードチップ312を、複数個並べて固定してレーザーダイオードアレイ310を構成する。
Claim (excerpt):
複数の発光点を有するマルチキャビティレーザーダイオードチップが、複数個並べて固定されてなるレーザーダイオードアレイ。
IPC (3):
H01S 5/022
, G03F 7/24
, H01S 5/22 610
FI (3):
H01S 5/022
, G03F 7/24 G
, H01S 5/22 610
F-Term (18):
2H097AA16
, 2H097AB06
, 2H097CA03
, 2H097CA17
, 5F073AB05
, 5F073AB21
, 5F073AB27
, 5F073AB28
, 5F073BA07
, 5F073CA02
, 5F073EA24
, 5F073FA07
, 5F073FA08
, 5F073FA14
, 5F073FA15
, 5F073FA18
, 5F073FA22
, 5F073FA30
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (10)
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マルチビームレーザとこれを用いたレーザビームプリンタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-022198
Applicant:ソニー株式会社
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特開平4-264789
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端面発光型半導体レーザ素子を用いた光源装置および光走査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-022747
Applicant:富士ゼロックス株式会社
-
窒化物化合物半導体レーザ及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-038325
Applicant:株式会社東芝
-
窒化物半導体発光素子とこれを含む装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-344847
Applicant:シャープ株式会社
-
半導体光伝送モジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-189945
Applicant:株式会社日立製作所
-
半導体レーザーアレイ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-165737
Applicant:科学技術振興事業団
-
2次元アレイ型光素子モジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-099563
Applicant:住友電気工業株式会社, 技術研究組合新情報処理開発機構
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光伝送モジュール
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-162938
Applicant:三菱電機株式会社
-
光源装置、照明方法及びその装置、並びに、光学装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-287881
Applicant:ソニー株式会社
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