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J-GLOBAL ID：200903001955686049

光学材料用硬化性組成物

Inventor：
武捨 清

About 武捨 清

, 
笠井 隆史

About 笠井 隆史

, 
藤上 和生文

About 藤上 和生文


Applicant, Patent owner：
旭電化工業株式会社

About 旭電化工業株式会社


Agent (7)： 曾我 道照 ,  曾我 道治 ,  池谷 豊 ,  古川 秀利 ,  鈴木 憲七 ,  梶並 順 ,  白石 泰三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002169683
Publication number (International publication number)：2004010849
Application date： Jun. 11, 2002
Publication date： Jan. 15, 2004
Summary：
【課題】本発明は、高分子材料に対して、新たに感光性を付与し、簡易かつ高速な導波路形成を可能とし、屈折率制御性、通信波長における透明性、耐熱性、耐湿性、耐溶剤性、可撓性に優れた高分子光導波路及びその材料を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、必須の構成成分として、エポキシ基を有し、少なくとも3つの結合元素が酸素原子であるケイ素原子を含み、Si-R基(Rは、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基若しくはフェニルアルキル基又はR中の水素原子の一部若しくは全部がハロゲン化若しくは重水素化された、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基若しくはフェニルアルキル基)を有し、Si-OH基を有さない、重量平均分子量500〜100万のケイ素含有重合体及び硬化触媒を含有することを特徴とする光学材料用硬化性組成物である。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
必須の構成成分として、エポキシ基を有し、少なくとも3つの結合元素が酸素原子であるケイ素原子を含み、Si-R基(Rは、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基若しくはフェニルアルキル基又はR中の水素原子の一部若しくは全部がハロゲン化若しくは重水素化された、アルキル基、フェニル基、アルキルフェニル基若しくはフェニルアルキル基)を有し、Si-OH基を有さない、重量平均分子量500〜100万のケイ素含有重合体及び硬化触媒を含有することを特徴とする光学材料用硬化性組成物。
IPC (2)：
C08G59/20 ,  G02B6/12
FI (2)：
C08G59/20 ,  G02B6/12 N
F-Term (17)：
2H047KA03 ,  2H047PA02 ,  2H047PA22 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA11 ,  4J036AK17 ,  4J036BA09 ,  4J036DC02 ,  4J036DC06 ,  4J036DC10 ,  4J036DC15 ,  4J036GA01 ,  4J036HA02 ,  4J036JA07 ,  4J036JA08
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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