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J-GLOBAL ID:200903002276015140
口径変換用高分子光導波路パターン形成方法
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997059437
Publication number (International publication number):1998253845
Application date: Mar. 13, 1997
Publication date: Sep. 25, 1998
Summary:
【要約】【課題】 光部品との接続を容易に行うことを可能とする口径変換用高分子光導波路パターン形成方法を提供する。【解決手段】 口径変換用高分子光導波路パターン形成方法は、光導波路を形成すべき部分に感光性物質を層状に形成する工程と、該感光性物質の所定部分に対してマスクを介して、あるいは直接に光照射を行ってパターン潜像を形成する工程と、光照射がなされなかった感光性物質の他の部分を溶媒によって除去する工程とを有し、さらにパターン潜像が形成された所定の部分を光導波路のコア部分とする光導波路パターンを形成する方法であって、感光性物質は、感光性オリゴマーおよび感光性フィルムからなる群から選択されることを特徴とする。
Claim (excerpt):
光導波路を形成すべき部分に感光性物質を層状に形成する工程と、該感光性物質の所定部分に対してマスクを介して、あるいは直接に光照射を行ってパターン潜像を形成する工程と、前記光照射がなされなかった前記感光性物質の他の部分を溶媒によって除去する工程とを有し、さらに前記パターン潜像が形成された前記所定の部分を光導波路のコア部分とする光導波路パターンを形成する方法であって、前記感光性物質は、感光性オリゴマーおよび感光性フィルムからなる群から選択されることを特徴とする口径変換用高分子光導波路パターン形成方法。
IPC (2):
FI (2):
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 N
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (16)
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硬化性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-067278
Applicant:信越化学工業株式会社
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有機官能基含有オルガノポリシロキサンの製造方法及び前記製造方法から得られるオルガノポリシロキサン
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-272000
Applicant:信越化学工業株式会社
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光導波路
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-130614
Applicant:日本電信電話株式会社
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エポキシ基含有シリコーンレジンおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-112172
Applicant:東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社
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不飽和基含有硬化性樹脂およびそれを用いた硬化性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-087479
Applicant:ダイセル化学工業株式会社
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特開平3-288102
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特開平1-134309
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特開平1-163704
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特開昭62-143909
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特開昭59-204803
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特開昭59-204519
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特開昭60-249104
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特開昭60-033511
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特開昭56-142502
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特開昭60-033551
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特開昭61-009607
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