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J-GLOBAL ID:200903074433791125

光導波路用感光性組成物およびその製造方法および高分子光導波路パタ-ン形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 谷 義一 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999284886
Publication number (International publication number):2000180643
Application date: Oct. 05, 1999
Publication date: Jun. 30, 2000
Summary:
【要約】【課題】透明性、耐熱性及び耐湿性、光学等方性、簡易なパターン形成能、加工性を有し、複屈折が小さい有機オリゴマーを含む組成物、その製造方法、およびそれを用いる簡易で量産性に優れ、かつ光部品との接続が容易に行うことが可能な高分子光導波路パターンの形成方法の提供。【解決手段】光重合性有機オリゴマーと重合開始剤と架橋剤とを含む光導波路用感光性組成物を用いて、前記光導波路用感光性組成物を塗布・乾燥する工程と、得られた光導波路用感光性組成物薄膜をマスク越しに光照射する工程と、該感光性組成物薄膜をウエットエッチングすることにより直接コアリッジパターンを形成して高分子光導波路パターンを形成する。
Claim (excerpt):
有機オリゴマーと重合開始剤とを含む光導波路用感光性組成物において、有機オリゴマーが一般式(1)で表わされるシリコーンオリゴマーであることを特徴とする光導波路用感光性組成物。【化1】(式中、Xは水素原子、重水素原子、ハロゲン原子、アルキル基またはアルコキシ基を表し、mは1〜5の整数であり、xおよびyはそれぞれ各ユニットの存在割合を示し、xおよびyはともに0であることはなく、R1は、メチル基、エチル基またはイソプロピル基を表す)
IPC (4):
G02B 6/12 ,  C08L 83/04 ,  G02B 6/13 ,  G03F 7/075 511
FI (4):
G02B 6/12 N ,  C08L 83/04 ,  G03F 7/075 511 ,  G02B 6/12 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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