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J-GLOBAL ID:200903002068945710

二光子吸収材料

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3): 三枝 英二 ,  掛樋 悠路 ,  斎藤 健治
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005267913
Publication number (International publication number):2007077091
Application date: Sep. 15, 2005
Publication date: Mar. 29, 2007
Summary:
【課題】 溶媒効果を小さくでき安定した二光子吸収特性発現が可能である新規化合物を提供する。【解決手段】下記一般式(1)または(2); (式中、R1、R2、R3、R4、R1a、R1b、R1c、R1d、R1e、R1f、m、nは、多環の共役炭化水素等を示す。)で表されるキノジメタン構造を有する共役拡張型キノジメタン化合物。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
下記一般式(1)または(2);
IPC (2):
C07C 13/62 ,  G02F 1/361
FI (2):
C07C13/62 ,  G02F1/361
F-Term (7):
2K002AB29 ,  2K002BA02 ,  2K002CA05 ,  2K002HA14 ,  4H006AA01 ,  4H006AA03 ,  4H006AB92
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 二光子吸収材料
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-369795   Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
Cited by examiner (4)
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Article cited by the Patent:
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