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J-GLOBAL ID：200903002328193149
ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
横川 邦明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994242021
Publication number (International publication number)：1996082916
Application date： Sep. 09, 1994
Publication date： Mar. 26, 1996
Summary：
【要約】【目的】 ハーフトーン型位相シフトマスクのメインパターンの周囲に、露光光を確実に遮光できる遮光帯を設ける。【構成】 透明基板1の上にハーフトーン材料膜2’を積層して成るハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、ハーフトーン材料膜2’に対して選択的にエッチングが可能な、すなわち、ハーフトーン材料膜2’をエッチングすることなく独立してエッチングが可能である金属膜8をメインパターン3の外周部に枠状に設ける。金属膜8は遮光性を有する材料、例えば、Cr、CrO、CrN、CrON又はそれらを積層した複合膜によって形成され、例えばステッパー等を用いた露光時にメインパターン3の外周部分に対応するウェハが感光することを確実に防止できる。
Claim (excerpt)：
透明基板の上にハーフトーン材料膜を積層して成るハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、ハーフトーン材料膜に対して選択的にエッチングが可能な遮光性を有する金属膜をメインパターンの外周部に枠状に設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2)：
FI (2)：
H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
Cited by examiner (5)
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