縦型ウエーハボート

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：佐々木功 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996095199
Publication number (International publication number)：1997283455
Application date： Apr. 17, 1996
Publication date： Oct. 31, 1997
Summary：

【要約】【課題】縦型ウエーハボートにおいて、ウエーハを支持する支持部に対してウエーハの荷重が均等に分散しなかったこと、及び支持部とウエーハとの温度上昇率が異なっていたことにより生じていたスリップを回避すること。【解決手段】本発明に係る縦型ウエーハボートにおいては、ウエーハを3点で支持することにより、ウエーハの荷重を支持部において均等に分散することができ、更に支持部の厚みを略ウエーハと同じ厚さにすることにより、熱伝導による温度上昇率を同じにすることで、スリップを解消することができるのである。

Claim (excerpt)：

少なくともウエーハを支持する支持本体と、該支持本体を上下で支持する上部支持体と下部支持体とを含み、前記支持本体には、ウエーハを3点で支持する支持部が複数形成されており、該支持部はウエーハの厚みと略同じ厚さに形成したことを特徴とする縦型ウエーハボート。

IPC (6)：

H01L 21/22 511 , H01L 21/22 , H01L 21/205 , H01L 21/31 , H01L 21/324 , H01L 21/68

FI (6)：

H01L 21/22 511 G , H01L 21/22 511 M , H01L 21/205 , H01L 21/31 F , H01L 21/324 D , H01L 21/68 N

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

熱処理用ボート
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-031315 Applicant：東京エレクトロン東北株式会社
ウェーハ支持ボート
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-327601 Applicant：株式会社テクニスコ
半導体ウエハの熱処理用搭載治具及び熱処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-170259 Applicant：東京エレクトロン株式会社

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