ガス吸収装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：大島陽一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003167537
Publication number (International publication number)：2005000811
Application date： Jun. 12, 2003
Publication date： Jan. 06, 2005
Summary：

【課題】所要の温度で高濃度のガス吸収液を安定して生成することが可能なものとする。【解決手段】原料液と原料ガスとを攪拌混合する静止型混合器2と、これにより生成するガス吸収液の温度を調整する加温・冷却回路31とを有し、静止型混合器が、円筒状のケーシングの内部の流路中に複数の抵抗体が配設され、該複数の抵抗体が、共に内周面側から中心部に向けて板状に突出され、下流側に傾斜した状態で互いに接触しないように軸線方向に所定の間隔をおき、かつ周方向に順次所定角度ずつずらして設けられたものとする。特に、原料液が導入されてこれを所要の時間滞留させる処理槽3を有し、静止型混合器の上流側で原料ガスを注入しながら静止型混合器と処理槽との間で液を循環させるようにする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

原料液と原料ガスとを攪拌混合する静止型混合器と、これにより生成するガス吸収液の温度を調整する温度調整手段とを有し、前記静止型混合器は、円筒状のケーシングの内部の流路中に複数の抵抗体が配設され、該複数の抵抗体が、共に内周面側から中心部に向けて板状に突出され、下流側に傾斜した状態で互いに接触しないように軸線方向に所定の間隔をおき、かつ周方向に順次所定角度ずつずらして設けられたことを特徴とするガス吸収装置。

IPC (4)：

B01F1/00 , B01F3/04 , B01F15/06 , C02F1/78

FI (4)：

B01F1/00 A , B01F3/04 Z , B01F15/06 , C02F1/78

F-Term (10)：

4D050AA01 , 4D050AB31 , 4D050BB02 , 4D050BD03 , 4D050BD06 , 4G035AA01 , 4G035AB27 , 4G035AE15 , 4G037CA03 , 4G037EA01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

オゾン水製造装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-368752 Applicant：株式会社ササクラ
地下水浄化方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-276853 Applicant：阪野昇
卵殻洗浄殺菌装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-039961 Applicant：木戸株式会社

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