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J-GLOBAL ID：200903002656839412

ポジ型化学増幅レジスト組成物及びこれに使用する化合物の製法

Inventor：
青合 利明

About 青合 利明

, 
藤森 亨

About 藤森 亨


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994262790
Publication number (International publication number)：1996123031
Application date： Oct. 26, 1994
Publication date： May. 17, 1996
Summary：
【要約】【目的】 ナトリウム、カリウムの金属不純物含量の少ないポジ型化学増幅レジスト組成物及び上記金属不純物の混入を防いだ該組成物に使用する酸分解性アルキルエステル基を有する低分子化合物又は樹脂の製造方法を提供する。【構成】 光酸発生化合物、アルカリ水溶液可溶樹脂、及び酸分解し且つアルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する低分子酸分解性溶解阻止化合物又は樹脂、を含有し且つナトリウム及びカリウムの含量がそれぞれ30ppb以下である組成物、又特定のアンモニウムヒドロキシド存在下脱酸縮合反応させることにより、前記低分子酸分解性溶解阻止化合物又は樹脂を製造する方法。
Claim (excerpt)：
(a)活性光線、または放射線の照射により酸を発生する化合物、(b)水不溶でアルカリ水溶液に可溶な樹脂、(c)酸により分解し得る式(I)で示されるアルキルエステル基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量3,000以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物、を含有し且つナトリウム及びカリウムの含量がそれぞれ30ppb以下であることを特徴とするポジ型化学増幅レジスト組成物。【化1】式中R01、R02は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基を示し、R03〜R05は水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アリール基、アルケニル基、アラルキル基を示す。またR03〜R05の内、2つが結合し環を形成してもよい。Nは1〜10の整数を示す。
IPC (5)：
G03F 7/039 501 ,  C08L 61/06 LNF ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
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