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J-GLOBAL ID：200903046894277250

ポジ型感光性組成物

Inventor：
山中 司

About 山中 司

, 
青合 利明

About 青合 利明

, 
小久保 忠嘉

About 小久保 忠嘉


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993068630
Publication number (International publication number)：1994282073
Application date： Mar. 26, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：
【要約】【目的】 露光後のベークによる膜収縮及び現像時の膜減りが少なく、定在波の無い良好なプロファイルと高解像力を有するポジ型感光性組成物を提供する。【構成】(a)酸で分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する樹脂(以下、酸で分解し得る基を有する樹脂と略す)、(b)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)酸で分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量3,000以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物、を含有するポジ型感光性組成物において、該化合物(c)が、1つのベンゼン環上に酸で分解し得る基を1個有する構造単位を1分子中に少なくとも3個以上有し、且つ、該酸分解性基間の距離が最も離れた位置において、酸分解性基を除く結合原子を9個以上経由する化合物であることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
(a)酸で分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する樹脂、(b)活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、及び(c)酸により分解し得る基を有し、アルカリ現像液中での溶解度が酸の作用により増大する、分子量3,000以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物、を含有するポジ型感光性組成物において、該化合物(c)が、1つのベンゼン環上に酸で分解し得る基を1個有する構造単位を1分子中に少なくとも3個以上有し、且つ、該酸分解性基間の距離が最も離れた位置において、酸分解性基を除く結合原子を9個以上経由する化合物であることを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (6)：
G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/023 511 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
  • 特開平4-088348
  • ポジ型レジスト材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-321540   Applicant：日本電信電話株式会社, 信越化学工業株式会社
  • ポジ型レジスト材料
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-060986   Applicant：日本電信電話株式会社
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