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J-GLOBAL ID：200903002802717456

ウェハおよび露光マスク

Inventor：
納土 晋一郎

About 納土 晋一郎


Applicant, Patent owner：
ソニー株式会社

About ソニー株式会社


Agent (1)： 船橋 國則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003097625
Publication number (International publication number)：2004304093
Application date： Apr. 01, 2003
Publication date： Oct. 28, 2004
Summary：
【課題】ウェハ-露光マスク間のギャップの補正を含むアライメント精度の向上を図ることが可能なウェハおよび露光マスクを提供する。【解決手段】近接露光の際の位置合わせ用の検査光を散乱させるエッジを備えた位置合わせマーク(ウェハマーク)を露光面に設けてなるウェハ11であって、ウェハマーク13は、所定方向xにドットパターン15を配列してなるドットパターン群15aを、ドットパターン15の配置間隔p1よりも広い配置間隔p2で所定方向xに配列してなることを特徴としている。また、同様の近接露光に用いる露光マスクであり、ウェハマーク13と同様の構成の位置合わせマークをマスクマークとして備えている。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
近接露光の際の位置合わせ用の検査光を散乱させるエッジを備えた位置合わせマークを露光面に設けてなるウェハであって、 前記位置合わせマークは、所定方向にドットパターンを配列してなるドットパターン群を、当該ドットパターンの配置間隔よりも広い配置間隔で当該所定方向に配列してなる ことを特徴とするウェハ。
IPC (2)：
H01L21/027 ,  G03F1/08
FI (3)：
H01L21/30 510 ,  G03F1/08 D ,  G03F1/08 N
F-Term (8)：
2H095BA03 ,  2H095BB02 ,  2H095BE03 ,  2H095BE08 ,  5F046BA02 ,  5F046EA09 ,  5F046EB01 ,  5F046EB02
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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