投影露光装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大森聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994032224
Publication number (International publication number)：1995240367
Application date： Mar. 02, 1994
Publication date： Sep. 12, 1995
Summary：

【要約】【目的】投影光学系を介して所定のマークの観察又は投影を行う場合に、瞳フィルタが挿入されているときでも良好にそのマークの観察又は投影を行う。【構成】光ファイバ23を介して導いた照明光IL2により、レチクル1上のアライメントマーク8Bを照明し、レチクル1を透過した照明光により投影光学系3を介してウエハステージ13側の基準マーク22を照明する。基準マーク22をコンタクトホールパターンのような微細パターンの集合体から形成すると、基準マーク22からの回折光が、投影光学系3内の瞳フィルタ4の周囲を通過して撮像素子29X,29Yに至る。撮像素子29X,29Yの撮像面に基準マーク22の像とアライメントマーク8Bの像とが重畳して結像される。

Claim (excerpt)：

マスク上のパターンを投影光学系を介して、該投影光学系の光軸に垂直な平面内で移動自在な基板ステージ上に保持された感光基板上に投影する投影露光装置において、前記投影光学系の瞳面又は該瞳面の近傍に配置された瞳フィルタと、前記基板ステージ上に前記瞳フィルタの形状に応じた微細度で形成された基準マークと、照明光で前記基準マークを照明する照明手段と、該基準マークから発生した後、前記投影光学系を経た照明光を受光する受光手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03B 27/32 , G03F 7/20 521 , G03F 9/00

FI (3)：

H01L 21/30 525 B , H01L 21/30 516 A , H01L 21/30 526 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-037232 Applicant：株式会社ニコン
投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-123242 Applicant：株式会社日立製作所
特開平4-352412

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Cited by examiner (1)

投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-037232 Applicant：株式会社ニコン

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