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J-GLOBAL ID：200903002888656128

真空アーク蒸着装置

Inventor：
雨宮 亨

About 雨宮 亨


Applicant, Patent owner：
日新電機株式会社

About 日新電機株式会社


Agent (1)： 山本 恵二
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003163599
Publication number (International publication number)：2005002360
Application date： Jun. 09, 2003
Publication date： Jan. 06, 2005
Summary：
【課題】低アーク電流運転の場合や陰極が高融点材料から成る場合でも、真空アーク蒸発源においてアーク放電を安定に維持することができるようにする。【解決手段】この真空アーク蒸着装置は、真空アーク蒸発源12用のアーク電源として、真空アーク蒸発源12に三角波状のアーク電流IA を供給するアーク電源30を備えている。アーク電源30は、方形波電圧VR を出力する方形波電源32と、この方形波電源32と真空アーク蒸発源12との間に直列に接続されたインダクタ38とを備えて成る。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
基体を収納する真空容器と、真空アーク放電によって陰極を蒸発させて陰極物質を含むプラズマを生成して前記基体に薄膜を形成する真空アーク蒸発源と、この真空アーク蒸発源にアーク電流を供給するアーク電源とを備える真空アーク蒸着装置において、前記アーク電源として、前記真空アーク蒸発源に三角波状のアーク電流を供給するアーク電源を備えていることを特徴とする真空アーク蒸着装置。
IPC (2)：
C23C14/32 ,  C23C14/24
FI (2)：
C23C14/32 F ,  C23C14/24 F
F-Term (9)：
3C046FF19 ,  4K029AA02 ,  4K029BA58 ,  4K029BC02 ,  4K029BD04 ,  4K029BD05 ,  4K029CA01 ,  4K029CA03 ,  4K029DD06
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
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Cited by examiner (5)
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