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J-GLOBAL ID:200903003234356504
現像装置
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福島 祥人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997216372
Publication number (International publication number):1999067622
Application date: Aug. 11, 1997
Publication date: Mar. 09, 1999
Summary:
【要約】【課題】 基板上の感光性膜に少量の現像液で均一な現像処理を行うことができる現像装置を提供することである。【解決手段】 現像液吐出ノズル11は基板100に向かって移動開始した後、現像液の吐出を開始する。基板100の前方に液除去部材16が配置されている。液除去部材16は基板100の外周端縁に沿って円弧状に形成されている。現像液吐出ノズル11が液除去部材16上を通過する際、現像液吐出ノズル11の先端に付着した現像液は液除去部材16により除去される。その後、現像液吐出ノズル11は基板100上に達し、走査方向Aに沿って移動しつつ現像液を吐出する。
Claim (excerpt):
基板を水平姿勢で保持する基板保持手段と、現像液を吐出する現像液吐出ノズルと、前記基板保持手段に静止状態で保持された基板外の一方側の移動開始位置から前記基板上を通過して前記基板外の他方側の停止位置まで前記現像液吐出ノズルを移動させる移動手段と、前記現像液吐出ノズルの前記移動開始位置と前記基板の一方側の端縁との間に設けられ、前記現像液吐出ノズルの先端に付着した現像液を除去する液除去部材とを備えたことを特徴とする現像装置。
IPC (3):
H01L 21/027
, B05C 5/02
, G03F 7/30 501
FI (3):
H01L 21/30 569 C
, B05C 5/02
, G03F 7/30 501
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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基板処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-156073
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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特開昭63-018627
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特開平4-030521
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特開平4-030521
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処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-351191
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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現像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-037889
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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ノズル待機装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-312513
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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現像装置及び現像処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-276984
Applicant:東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン九州株式会社
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特開昭57-192955
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