Pat
J-GLOBAL ID:200903003248070450
プラズマ処理方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
西川 惠清 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001159097
Publication number (International publication number):2002346493
Application date: May. 28, 2001
Publication date: Dec. 03, 2002
Summary:
【要約】【課題】 部材の内面全体に均一な表面処理を施すことができるプラズマ処理方法を提供する。【解決手段】 ガスバリア性を有する絶縁性部材1の内部をガス2で充満した後、絶縁性部材1を密閉する。この絶縁性部材1に電磁波4を照射することにより絶縁性部材1の内部に充満したガス2を活性化する。活性化したガス2を絶縁性部材1の内部の全体に亘って発生させて、絶縁性部材1の内面全体に活性化したガス2を到達させて接触させることができる。
Claim (excerpt):
ガスバリア性を有する絶縁性部材の内部をガスで充満した後、絶縁性部材を密閉し、この絶縁性部材に電磁波を照射することにより絶縁性部材の内部に充満したガスを活性化することを特徴とするプラズマ処理方法。
IPC (5):
B08B 7/00
, A61L 2/14
, B01J 19/08
, B08B 9/20
, H05H 1/46
FI (5):
B08B 7/00
, A61L 2/14
, B01J 19/08 E
, B08B 9/20
, H05H 1/46 B
F-Term (18):
3B116AA23
, 3B116AA26
, 3B116AB01
, 3B116BB88
, 3B116BB89
, 4C058AA25
, 4C058BB06
, 4C058BB07
, 4C058JJ06
, 4C058KK06
, 4G075AA30
, 4G075AA37
, 4G075AA70
, 4G075BA05
, 4G075BD14
, 4G075CA47
, 4G075CA62
, 4G075CA63
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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容器内面のプラズマ処理法とこれを用いる装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-097359
Applicant:イーシー化学株式会社, 伊藤忠ファインケミカル株式会社
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大気圧グロ-放電プラズマ処理法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-078110
Applicant:イーシー化学株式会社
-
気相成長装置のプラズマ洗浄方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-122319
Applicant:富士電機株式会社
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