Pat
J-GLOBAL ID:200903039336463385
感放射線性樹脂組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
和気 操
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003316385
Publication number (International publication number):2005084365
Application date: Sep. 09, 2003
Publication date: Mar. 31, 2005
Summary:
【課題】 ラフネス、エッチング耐性、感度、解像度に優れ、微細パターンを高精度にかつ安定して形成できる。【解決手段】 式(1)および/または式(2)で表されるオニウム塩構造単位を繰り返し単位として有する重合体を含む。【化1】R1は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数1〜5の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、または、ハロアルキル基を表し、R2およびR3は相互に独立に、置換もしくは非置換された炭素数1〜10の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基、アルコキシ基、ハロアルキル基、または、炭素数6〜20のアリール基を表し、A1は単結合、エーテル結合、エステル結合、または、アミド結合を表し、X-は陰イオンを表す。【選択図】 無
Claim (excerpt):
式(1)で表されるスルホニウム塩構造単位および式(2)で表されるヨードニウム塩構造単位から選ばれた少なくとも一つのオニウム塩構造単位を繰り返し単位として有する重合体を含む感放射線性樹脂組成物。
IPC (5):
G03F7/004
, C08F12/30
, C08F20/00
, G03F7/039
, H01L21/027
FI (5):
G03F7/004 503A
, C08F12/30
, C08F20/00
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
F-Term (24):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB45
, 2H025FA17
, 4J100AB07P
, 4J100AB07Q
, 4J100AL08P
, 4J100BA03Q
, 4J100BA56P
, 4J100BC43P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100JA38
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (15)
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ポジ型感放射線性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-235290
Applicant:東レ株式会社
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電子線またはX線用化学増幅系ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-049639
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-280035
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-193140
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-219253
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
電子線又はX線用ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-233120
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-372986
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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末端に非共有電子対を有する官能基を導入した高分子化合物、その製造方法及び該高分子化合物を使用したポジ型レジスト材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-186872
Applicant:科学技術振興事業団
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微細パターン形成材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-246324
Applicant:和光純薬工業株式会社, 松下電器産業株式会社
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ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-275334
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ポジ型電子線又はX線レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-252141
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-267329
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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電子線又はX線用ポジ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-296777
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-327090
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ネガ型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-358016
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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Cited by examiner (7)
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-024011
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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特開平4-230645
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新規なスルホキソニウム塩
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-119692
Applicant:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
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