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J-GLOBAL ID：200903003364291048

ガスハイドレートの濃度測定方法およびその装置

Inventor：
高橋 正浩

About 高橋 正浩

, 
延永 尚志

About 延永 尚志

, 
神田 伸靖

About 神田 伸靖


Applicant, Patent owner：
三井造船株式会社

About 三井造船株式会社


Agent (3)： 小川 信一 ,  野口 賢照 ,  斎下 和彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007195858
Publication number (International publication number)：2009029946
Application date： Jul. 27, 2007
Publication date： Feb. 12, 2009
Summary：
【課題】原料ガスと原料水とを気液接触させてガスハイドレートを製造する製造装置において、生成されるガスハイドレートの濃度をインラインでかつその場で計測することを特徴とするガスハイドレートの製造装置におけるハイドレート濃度測定装置を提供する。【解決手段】所定の圧力と温度を保持している生成器1に原料ガスG1と原料水W1とを導入して反応させ、ガスハイドレートと未反応水とよりなるスラリーを生成する生成手段を有するガスハイドレートの製造装置において、前記生成手段にて生成したスラリーを移送するスラリー管L2にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計K1を設けた。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
所定の圧力と温度を保持している生成器に原料ガスと原料水とを導入して反応させ、ガスハイドレートと未反応水とよりなるスラリーを生成する生成手段を有するガスハイドレートの製造装置において、 前記生成手段にて生成したスラリーを移送するスラリー管にガスハイドレートの濃度を計測する濃度計を設けたことを特徴とするガスハイドレートの製造装置。
IPC (2)：
C10L 3/06 ,  G01N 21/35
FI (2)：
C10L3/00 A ,  G01N21/35 Z
F-Term (12)：
2G059AA01 ,  2G059BB01 ,  2G059BB04 ,  2G059DD03 ,  2G059DD12 ,  2G059DD15 ,  2G059DD16 ,  2G059EE01 ,  2G059HH01 ,  2G059MM01 ,  2G059MM05 ,  2G059PP04
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (6)
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