表面測定装置

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：浜田修司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007127372
Publication number (International publication number)：2008261829
Application date： Apr. 12, 2007
Publication date： Oct. 30, 2008
Summary：

【課題】反射率の異なる部分を有する被測定物上の被測定面の高さを高速で測定することができる表面測定装置を提供する。【解決手段】共焦点光学系2を有した表面測定装置1であって、この共焦点光学系2の対物レンズ27と結像レンズ25との間に、この対物レンズ27と同軸に設けた遮光板26と、この対物レンズ27と同軸に、被測定面6aにレーザ光を照射するレーザ発振器20と、前記対物レンズ27を介して前記被測定面6aの像の輝度を検出する光検出手段21と、この共焦点光学系2の焦点面を被検物に垂直に相対移動させるピエゾ素子25aとを有することを特徴としている。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

共焦点光学系を有した表面測定装置であって、この共焦点光学系の対物レンズと結像レンズとの間に、この対物レンズと同軸に遮光板を設けたことを特徴とする表面測定装置。

IPC (2)：

G01B 11/02 , G02B 21/00

FI (2)：

G01B11/02 Z , G02B21/00

F-Term (39)：

2F065AA24 , 2F065AA53 , 2F065DD04 , 2F065DD06 , 2F065FF01 , 2F065FF04 , 2F065FF10 , 2F065GG04 , 2F065HH04 , 2F065HH13 , 2F065JJ01 , 2F065JJ05 , 2F065JJ09 , 2F065JJ26 , 2F065LL00 , 2F065LL04 , 2F065LL18 , 2F065LL30 , 2F065LL57 , 2F065MM03 , 2F065MM16 , 2F065MM28 , 2F065PP12 , 2F065PP24 , 2F065QQ03 , 2F065UU07 , 2H052AA08 , 2H052AB24 , 2H052AC04 , 2H052AC09 , 2H052AC15 , 2H052AC27 , 2H052AC34 , 2H052AD07 , 2H052AD18 , 2H052AD34 , 2H052AF06 , 2H052AF14 , 2H052AF21

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

高さ測定方法及び高さ測定装置、並びに信号処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-210901 Applicant：日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社
ピーク信号選択回路及び走査型共焦点顕微鏡
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-181478 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

Cited by examiner (6)

立体形状検出方法及びその装置並びに共焦点検出装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-236605 Applicant：株式会社日立製作所, 日立電子エンジニアリング株式会社
微小高さ測定方法及びそれに用いる微小高さ測定装置並びに変位ユニット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-084393 Applicant：株式会社ブイ・テクノロジー
共焦点型検査装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-169960 Applicant：住友大阪セメント株式会社

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