X線発生用ターゲット、X線発生装置及びX線発生方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：山川政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996187301
Publication number (International publication number)：1998031099
Application date： Jul. 17, 1996
Publication date： Feb. 03, 1998
Summary：

【要約】【課題】飛散金属粒子による光学素子及び試料等の汚染を少なくする。【解決手段】高出力パルスレーザ装置1から出射したレーザ光を固体ターゲット5に照射する。固体ターゲット5としては、Auの微粒子をガラス中に析出させた固体材料を使用している。Auの粒径は約100nm程度で、濃度は0.001vol%以下である。ガラスの組成は、Si、B、Al、Na、K、Pb、Znを含む多成分ガラスであり、可視・近赤外領域では透明である。このような固体ターゲットを用いると、レーザ誘起プラズマ中のAu原子の数が極めて少なく、かつガラス自体が透明材料であるため、飛散粒子による汚染の影響を通常の金属ターゲットに比べて著しく少なくすることができる。

Claim (excerpt)：

レーザ光をターゲットに照射して誘起されるプラズマからX線を発生させるX線発生装置のための前記ターゲットにおいて、このターゲットが、金属微粒子を透明基板中に散在させた固体材料からなるものであることを特徴とするX線発生用ターゲット。

IPC (3)：

G21K 5/08 , G21K 5/02 , H05G 2/00

FI (3)：

G21K 5/08 X , G21K 5/02 X , H05G 1/00 K

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

レーザープラズマX線源用標的
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-315446 Applicant：株式会社ニコン
レーザプラズマ用ターゲット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-059870 Applicant：株式会社東芝
レーザプラズマ光源
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-303804 Applicant：オリンパス光学工業株式会社

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