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J-GLOBAL ID:200903003874458931

多孔質体及び多孔質体の製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 後藤 幸久
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999262793
Publication number (International publication number):2001081225
Application date: Sep. 16, 1999
Publication date: Mar. 27, 2001
Summary:
【要約】【課題】 耐熱性に優れ、微細なセル構造を有し、しかも誘電率の低い多孔質体を得る。【解決手段】 本発明の多孔質体の製造方法では、ポリマの連続相に平均径10μm未満の非連続相が分散したミクロ相分離構造を有するポリマ組成物から、前記非連続相を構成する成分を蒸発及び分解から選択された少なくとも1種の操作と抽出操作とにより除去し、多孔化することを特徴とする。前記非連続相を構成する成分の重量平均分子量は、例えば10000以下である。前記非連続相を構成する成分の抽出溶媒として液化二酸化炭素又は超臨界状態にある二酸化炭素などを使用できる。
Claim (excerpt):
ポリマの連続相に平均径10μm未満の非連続相が分散したミクロ相分離構造を有するポリマ組成物から、前記非連続相を構成する成分を蒸発及び分解から選択された少なくとも1種の操作と抽出操作とにより除去し、多孔化することを特徴とする多孔質体の製造方法。
IPC (4):
C08J 9/12 CFG ,  C08J 9/26 CFG ,  C08J 9/26 102 ,  C08L 79/08
FI (4):
C08J 9/12 CFG ,  C08J 9/26 CFG ,  C08J 9/26 102 ,  C08L 79/08
F-Term (23):
4F074AA74 ,  4F074AA76 ,  4F074AA78 ,  4F074AB01 ,  4F074CB03 ,  4F074CB17 ,  4F074CB27 ,  4F074DA03 ,  4F074DA24 ,  4F074DA47 ,  4J002BG072 ,  4J002CD192 ,  4J002CF061 ,  4J002CF071 ,  4J002CG001 ,  4J002CH012 ,  4J002CH082 ,  4J002CH091 ,  4J002CK022 ,  4J002CL001 ,  4J002CM041 ,  4J002CN011 ,  4J002CN031
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (4)
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