Pat
J-GLOBAL ID:200903003962457317
MOSFET
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
芝野 正雅
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003094973
Publication number (International publication number):2004303948
Application date: Mar. 31, 2003
Publication date: Oct. 28, 2004
Summary:
【課題】実動作領域の周囲に設けられたガードリング上に電極が設けられていない部分では、ガードリング近傍で電荷の集中が起こりパターンが不均一になる。【解決手段】多数のMOSトランジスタのセル6を配列した実動作領域5と、実動作領域上に設けられ前記MOSトランジスタの各セルのソース領域18と接続されたソース電極7と、該ソース電極と接続したソースパッド電極と、前記MOSトランジスタの各セルのゲート電極16と接続したゲートパッド電極1と、ソース領域18の周囲に設けられたガードリング22とよりなり、前記ガードリングのゲート電極が覆われていない部分にソース電極を拡張して覆われるようする。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
多数のMOSトランジスタのセルを配列した実動作領域と、
前記実動作領域上に設けられ前記MOSトランジスタの各セルのソース領域と接続されたソース電極と、
前記ソース電極と接続したソースパッド電極と、
実動作領域の周囲に設けられたガードリングと、
前記ガードリング上を部分的に覆うように設けられ、MOSトランジスタの各セルのゲート電極とゲートパッド電極とを接続するゲート連結電極よりなり、
前記ソース電極を拡張して前記ガードリング上のゲート電極が覆われていない部分を前記ソース電極で覆われるようにしたことを特徴とするMOSFET。
IPC (1):
FI (4):
H01L29/78 652M
, H01L29/78 652P
, H01L29/78 652Q
, H01L29/78 652S
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
-
半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-211625
Applicant:株式会社デンソー
-
電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-330442
Applicant:新電元工業株式会社
-
特開平1-248564
-
半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-176500
Applicant:富士電機株式会社
-
特開平3-180074
-
高破壊耐量電界効果型トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-177950
Applicant:新電元工業株式会社
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Cited by examiner (6)
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半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-211625
Applicant:株式会社デンソー
-
電界効果トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-330442
Applicant:新電元工業株式会社
-
特開平1-248564
-
半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-176500
Applicant:富士電機株式会社
-
特開平3-180074
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高破壊耐量電界効果型トランジスタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-177950
Applicant:新電元工業株式会社
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