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J-GLOBAL ID：200903004265417346

ガスハイドレートの生成装置、製造装置および製造方法

Inventor： 加藤 裕一 ,  新井 敬 ,  岩崎 徹 ,  松尾 和芳 ,  堀口 清司
Applicant, Patent owner： 三井造船株式会社
Agent (1)： 石井 博樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002163731
Publication number (International publication number)：2004010686
Application date： Jun. 05, 2002
Publication date： Jan. 15, 2004
Summary：

【課題】大気圧下において輸送や貯蔵の効率が高く、ハンドリング性に優れた低付着水分である高濃度のガスハイドレートを生成する生成装置、製造装置、および製造方法を提供する。【解決手段】水供給手段18と原料ガス供給手段20を備え、所定の温度および圧力条件の下、水に原料ガスを気泡として導入し、ガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、液面より上部に浮き上がったクラスター状のガスハイドレートを回収する回収手段13を備えている。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

水供給手段と原料ガス供給手段を備え、所定の温度および圧力条件の下、水に原料ガスを気泡として導入し、ガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成装置において、 液面より上部に浮き上がったクラスター状のガスハイドレートを回収する回収手段を備えていることを特徴とする、ガスハイドレート生成装置。

IPC (8)：

C10L3/06 ,  C07B61/00 ,  C07B63/02 ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04 ,  C07C9/06 ,  C07C9/08

FI (8)：

C10L3/00 A ,  C07B61/00 C ,  C07B63/02 B ,  C07C5/00 ,  C07C7/20 ,  C07C9/04 ,  C07C9/06 ,  C07C9/08

F-Term (4)：

4H006AA02 ,  4H006AC93 ,  4H006BB31 ,  4H006BE60

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• ガスハイドレート連続製造方法及び装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-137267   Applicant：石川島播磨重工業株式会社
• ガスハイドレート生成容器、ガスハイドレート製造装置及び製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-272544   Applicant：三菱重工業株式会社
• ガスハイドレートの生成方法および生成装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-225987   Applicant：三菱重工業株式会社
• ガスハイドレート製造装置およびガスハイドレート脱水装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-097104   Applicant：三菱重工業株式会社
• ガスハイドレートの連続製造装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-069494   Applicant：三井造船株式会社