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J-GLOBAL ID:200903004266463228
撮像装置及び撮像方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 高柴 忠夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004217062
Publication number (International publication number):2006038553
Application date: Jul. 26, 2004
Publication date: Feb. 09, 2006
Summary:
【課題】 検査感度及び検査速度を落とさずに、撮像部と照明系とからなる、複数の撮像系間の機差を校正する撮像装置及び撮像方法、さらにこれを用いた検査装置を提供する。【解決手段】 本発明の撮像装置は、各々撮像部を有する複数の撮像系からなる撮像装置において、全ての撮像部の、露光時間に対応した輝度情報を読み込み、該輝度情報から各撮像部毎の露光時間係数を計算する露光時間係数計算部と、所定の露光時間に対して、各撮像部毎に対応する露光時間係数を乗じて、各撮像部の撮像に用いる撮像露光時間を計算する露光時間計算部とを有している。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
各々撮像部を有する複数の撮像系からなる撮像装置において、
全ての撮像部の、露光時間に対応した画像の輝度情報を読み込み、該輝度情報から各撮像部毎の露光時間係数を計算する露光時間係数計算部と、
所定の露光時間に対して、各撮像部毎に対応する露光時間係数を乗じて、各撮像部の撮像に用いる撮像露光時間を計算する露光時間計算部と
を有することを特徴とする撮像装置。
IPC (2):
FI (2):
G01N21/956 B
, H04N5/335 Q
F-Term (17):
2G051AA65
, 2G051AB02
, 2G051BA01
, 2G051CA04
, 2G051CA07
, 2G051CB01
, 2G051DA06
, 2G051EC02
, 2G051EC03
, 5C024AX01
, 5C024CX51
, 5C024CY17
, 5C024CY44
, 5C024EX01
, 5C024GY01
, 5C024HX30
, 5C024HX31
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
-
パターン検査装置およびその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-238812
Applicant:株式会社日立製作所
Cited by examiner (6)
-
特開昭61-091544
-
特開昭63-243725
-
シート状材料の表面欠陥検査方法及び表面欠陥検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-011996
Applicant:松下電工株式会社
-
分光分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-296856
Applicant:株式会社クボタ
-
画像読取装置、画像読取装置の制御手順を記憶する記憶媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-366625
Applicant:株式会社ニコン
-
表面疵検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-351376
Applicant:日本鋼管株式会社
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