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J-GLOBAL ID：200903004380915872

露光用基板と露光用マスク及び露光用基板の製造方法

Inventor： 伊藤 信一 ,  川野 健二 ,  岩松 孝行
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994273980
Publication number (International publication number)：1996137094
Application date： Nov. 08, 1994
Publication date： May. 31, 1996
Summary：

【要約】【目的】 膜厚の分布によらず、面内で均一な位相差と透過率を得ることのできる露光用マスクを提供すること。【構成】 透光性基板上に該基板に対して所望の位相差と透過率を有する半透明膜パターンを備えた露光用マスクにおいて、半透明膜の膜厚の違いに応じて該半透明膜に光を選択的に照射し、半透明膜の元素組成比を調整するなどして半透明膜パターンの複素屈折率を調整することで、基板面内で均一な位相差と強度透過率を得ることを特徴とする。

Claim (excerpt)：

透光性基板上に該基板に対して所望の位相差と透過率を有する半透明膜を備えた露光用基板において、前記半透明膜の複素屈折率又は元素組成比が、該半透明膜の膜厚に応じて調整されてなることを特徴とする露光用基板。

IPC (3)：

G03F 1/14 ,  G03F 1/08 ,  H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• 特開平4-136854
  
• ハーフトーンフォトマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-029014   Applicant：三菱電機株式会社
• 半透明位相シフトマスクの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-201652   Applicant：日本電気株式会社
• 露光マスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-294540   Applicant：株式会社東芝
• ハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス、ハーフトーン位相シフトフォトマスク、及び、それらの製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-188586   Applicant：大日本印刷株式会社

Cited by examiner (2)

• 特開平4-136854
  
• ハーフトーンフォトマスク
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-029014   Applicant：三菱電機株式会社