Pat
J-GLOBAL ID:200903004388294834
欠陥分類方法、プログラム、コンピュータ記憶媒体及び欠陥分類装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (3):
金本 哲男
, 亀谷 美明
, 萩原 康司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2008082740
Publication number (International publication number):2009238992
Application date: Mar. 27, 2008
Publication date: Oct. 15, 2009
Summary:
【課題】欠陥画像がない場合又は欠陥画像が少数しかない場合でも、撮像された基板の検査対象画像から当該基板の欠陥を適切に分類する手段の提供。【解決手段】欠陥分類装置200は、設計手段201と診断手段202を有している。設計手段201ではモデル生成部213において、テンプレート記憶部212内の欠陥テンプレートと教示用画像を合成して欠陥モデルを生成する。第1の分類クラス設定部214では、欠陥モデルにおける欠陥の特徴量を算出し、欠陥の分類クラスを設定する。欠陥の特徴量と分類クラスとの関係は、記憶部220に記憶される。診断手段202では特徴量算出部232において、ウェハの検査対象画像から欠陥の特徴量を算出する。分類部233では、特徴量算出部232で算出された欠陥の特徴量に基づいて、記憶部220内の欠陥の特徴量と分類クラスとの関係から、ウェハの欠陥を分類クラスに分類する。【選択図】図7
Claim (excerpt):
撮像された基板の検査対象画像に基づいて、当該基板の欠陥を分類する欠陥分類方法であって、
欠陥の特徴量に基づいて欠陥の分類クラスを設定し、前記欠陥の特徴量と前記分類クラスとの関係を記憶部に記憶させる設計工程と、
前記撮像された基板の検査対象画像から、当該基板の欠陥の特徴量を算出する特徴量算出工程と、
前記算出した欠陥の特徴量に基づいて、前記記憶部内に記憶された前記欠陥の特徴量と前記分類クラスとの関係から、前記基板の欠陥を前記分類クラスに分類する分類工程と、を有し、
前記設計工程は、
複数の欠陥テンプレートを作成する第1の工程と、
欠陥のない基板の教示用画像と前記欠陥テンプレートを合成して、欠陥モデルを生成する第2の工程と、
前記欠陥モデルにおける欠陥の特徴量を算出する第3の工程と、
前記欠陥モデルにおける欠陥の特徴量に対して、欠陥の分類クラスを設定する第4の工程と、
前記欠陥の特徴量と前記分類クラスとの関係を前記記憶部に記憶させる第5の工程と、を有することを特徴とする、欠陥分類方法。
IPC (4):
H01L 21/66
, G06T 1/00
, G06T 7/00
, G01N 21/956
FI (4):
H01L21/66 J
, G06T1/00 305A
, G06T7/00 250
, G01N21/956 A
F-Term (33):
2G051AA51
, 2G051AB02
, 2G051BB01
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051DA07
, 2G051DA09
, 2G051EB09
, 2G051EC01
, 2G051ED21
, 4M106AA01
, 4M106CA38
, 4M106DB04
, 4M106DJ20
, 4M106DJ21
, 4M106DJ38
, 5B057AA03
, 5B057BA02
, 5B057CA08
, 5B057CA12
, 5B057CA16
, 5B057CE08
, 5B057DA03
, 5B057DA08
, 5B057DC02
, 5B057DC08
, 5B057DC36
, 5L096DA02
, 5L096FA67
, 5L096FA69
, 5L096HA07
, 5L096JA11
, 5L096MA07
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (4)
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欠陥分類辞書教示装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2004-086833
Applicant:オリンパス株式会社
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欠陥分類方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-089686
Applicant:株式会社日立ハイテクノロジーズ
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欠陥分類方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-234302
Applicant:株式会社日立製作所
-
欠陥分類装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-370218
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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